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晶间腐蚀:金属材料在特定腐蚀介质中沿晶界发生的局部选择性腐蚀。晶界是不同晶粒之间的边界。由于晶粒有不同的取向，原子在结处的排列必须逐渐从一个取向转变为另一个取向。因此，晶界实际上是一种“表面”不完整的结构缺陷。由于晶格畸变的增加，晶界处原子的平均能量高于晶内。较高的能量称为晶界能。纯金属晶界在腐蚀介质中的腐蚀速率比晶体的腐蚀速率快，这是因为晶界的能量高，原子处于不稳定状态。
P. Si、B等杂质元素沿晶界偏析引起的非敏化晶间腐蚀只是晶界与晶体间形成化学浓度差而引起的简单电化学腐蚀过程，或者是偏析导致的晶界耐蚀性下降，或者还有其他因素，需要进一步探讨。
晶间腐蚀的特点是当金属表面没有损伤时，晶粒间的结合力和金属的脆响已经丧失。在严重的情况下，只要轻轻敲击，它就会碎成粉末。
非敏化晶间腐蚀通常发生在远离焊缝的母材上。其识别与敏化晶间腐蚀基本一致。在金相显微镜和扫描电镜下观察了Cr - Ni奥氏体不锈钢在尿素生产装置中的非敏化晶间腐蚀形貌。结果表明，这与上述的敏化晶间腐蚀有很大的不同。主要表现为宽大的晶间腐蚀裂纹，但往往延伸较浅，常伴有晶粒脱落，但在晶界处没有析出物。
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